工业四氟化碳 安徽谱纯 深圳四氟化碳
- 供应商
- 安徽谱纯气体科技有限公司
- 认证
- 手机号
- 15755114169
- 联系人
- 郑经理
- 所在地
- 合肥市经开区翡翠路天时广场二期2204室
- 更新时间
- 2022-09-30 15:52
四氟化碳贮存注意事项:气瓶使用和检验遵照《气瓶安全监察规程》的规定。气瓶内的气体不能全部用尽,应该留不小于0.04mpa剩余压力。四氟化碳对于硅和二氧化硅体系,采用cf4-h2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四氟化碳是当前微电子工业中应用量高的等离子体蚀刻气体,被广泛应用在硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻。除此之外,四氟化碳还能在电子电器表面清洗、激光、低温制冷、太阳能电池等领域有着应用。
四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常环境下是相对惰性的,在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中,氟自由基表现为典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高纯度的四氟化碳能很好的控制加工过程,工业四氟化碳价格,使尺寸和形状得到更好的控制,这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制(如半导体各项异性控制)。
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