1、适用于φ6φ5φ4基片，基片厚度0～5mm均可。
2、采用多点光源曝光头，zui大输出光束≥φ160mm；光束不均匀性≤±7%，（φ150mm范围内）。
3、光源采用350w直流汞灯。
4、版、片对准精度±0.5μm。
5、采用片动、版不动的对准方式以及三点找平机构。
6、扫描观察范围：±15mm。
7、采用双目视场显微镜，放大倍数50x～375x。也可采用双ccd加液晶监视器来显示，放大倍数30x～189x或67.5x～420x。
