centrotherm 真空焊接炉，退火炉，扩散炉，氧化炉

敝司代理centrotherm的各种炉子，比如

1.真空焊接炉c.vlo-series适用大批量的生产，焊接过程中的温度范围可高达450°c以上，客户应用领域涵盖：mems，mosfet、igbt，先进的封装和光电领域。

2.扩散炉c.verticoo mini/c.verticoo200多达5层堆叠的石英或碳化硅工艺炉管，可灵活选配工艺炉管，每个炉管之间不存在热干扰，先进的水冷却系统，一体化炉管控制系统。

3.pecvd/lpcvd的c.horicoo200/300系统是管式系统，采用平行式石墨舟和低频（40khz)激发等离子体放电。在低压和高温的条件下，等离子体在石墨舟的石墨电极之间激发。对硅片具有表面钝化和体钝化的双重功能。

4.氧化炉c.oxidator150工艺温度从900℃到1500℃，高氧化质量，n2o和no氧化物氮化，占地面积小，所有无金属加热器和绝缘

批量可达50片晶圆，现场氯气清洗。

5.退火炉c.activator150/c.rapid200高激活率，极小表面粗糙度(需适当的c-cap)，高温度可达2000°c，能持续运行≤1600 °c，升温速率高达100 k/min，批量处理2“,3“,100 mm,150mm碳化硅晶圆，批量一次工艺可达50片(150 mm)，真空<10-3 mbar(选配)，温度自动校准。