潍坊至诚环保 uv光解废气处理设备 uv光解
- 供应商
- 潍坊至诚环保技术工程有限公司
- 认证
- 手机号
- 15689887868
- 联系人
- 陈经理
- 所在地
- 山东省潍坊市潍城区安达大厦4楼
- 更新时间
- 2022-02-24 17:50
uv光解废气处理设备光催化处理反响机理
光催化是一种先进的氧化技能, uv光解选用半导体材料作为催化剂, 当能量相当于半导体禁带宽度的光照射到催化剂外表时,就会激起半导体内的电子从价带跃迁至导带,构成具有很强活性的电子2空穴对,并进一步诱导一系列氧化复原反响,然后到达去除污染物的意图。现在,大多数光催化剂为半导体资料,常见的有tio2、zno、cds、wo3、fe2o3、pbs、sno2、ino3、zns、srtio3、lacoo3、sio2等十几种,uv光解废气处理设备按成分可分为氧化物光催化剂(如tio2、zno)、硫化物光催化剂(如cds、zns)和复合氧化物光催化剂(如srtio3、lacoo3)。在很多光催化剂中,因为tio2具有杰出的化学、生物和光稳定性,且没有毒性、催化活性高、价格合理、运用寿命长,被公认为是醉佳的光催化剂.
uv光解
许多经济有用的去除挥发性有机污染物的技能被广泛的研讨,uv光解废气处理设备,其间光催化氧化法是90年代今后发展起来的处理挥发性有机废气的新办法、但现在还根本处于试验研讨阶段。相较于其他的处理办法,光催化氧化法具有工艺简略、成本低、能耗低一级特色,对低浓度的vocs有很好的去除作用。本文在一般的uv光解中参加波长更短、能量更强的真空紫外线(uv)光源,以家苯为处理目标,选用管式反应器,运用负载纳米tio2的玻璃珠和γ-al2o3小球为填料,对真空紫外线光催化法去除家苯作了扼要的试验研讨,经过改变反应器的运转条件,研讨了进口浓度、停留时间、相对湿度等要素对家苯去除率的影响。
试验结果表明,uv光解废气处理设备参加真空紫外线(uv)光源、延伸停留时间和较低的入口浓度,能够有用进步对家苯的去除率;相对湿度在45%-60%间,气体停留时间25s,家苯进口浓度60mg/m3时,uv光解,家苯的去除率醉高到达69%;参加负载纳米tio2的γ-al2o3小球构建的吸附—光催化二元系统对家苯的去除作用更好,对进口浓度改变的适应性较强,uv光解净化,当家苯进口浓度由400mg/m3升高至800mg/m3,uv光解其对家苯的去除率由42%下降至34%,而以玻璃珠为载体时,同条件下对家苯的去除率则由37%降至18%,而且运用真空紫外线光催化能够下降uv光源发生的臭氧的浓度。
uv光解
影响uv光解光催化净化的主要因素
uv光解废气处理设备光源及其强度
紫外线光源是光催化反响不行短少的重要部分,对光催化反响速率有着重要的影响。理论上讲小于380nm的光频能够诱发tio2的光催化活性。虽然一些研讨者开发了可见光条件下的光催化反响,可是灭菌紫外线(uvc254nm)荧光黑光灯(300–370 nm)仍然是醉广泛运用的光源。
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