上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140

供应商
伯东企业(上海)有限公司
认证
品牌
KRI
型号
RFICP 140
产地
美国
联系电话
021-50463511
手机号
13918837267
联系人
叶小姐
所在地
ec@hakuto-vacuum.cn
更新时间
2023-04-12 09:43

详细介绍

射频离子源 rficp 140

kri 射频离子源 rficp 140
上海伯东代理美国原装进口 kri 射频离子源 rficp 140 是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中,射频离子源 rficp 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材,实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言,可以在离子能量为 100~1200 ev 范围内获得很高的离子密度. 可以输出*大 600 ma 离子流.
射频离子源 rficp140

kri 射频离子源 rficp 140 技术参数:

阳极

电感耦合等离子体
1kw & 1.8 mhz
射频自动匹配

*大阳极功率

1kw

*大离子束流

> 500ma

电压范围

100-1200v

离子束动能

100-1200ev

气体

ar, o2, n2,其他

流量

5-40sccm

压力

< 0.5mtorr

离子光学, 自对准

optibeamtm

离子束栅极

14cm Φ

栅极材质

钼, 石墨

离子束流形状

平行,聚焦,散射

中和器

lfn 2000

高度

25.1 cm

直径

24.6 cm

锁紧安装法兰

12”cf


kri 射频离子源 rficp 140 应用领域:
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜)ibad,
溅镀和蒸发镀膜 pc
离子溅射沉积和多层结构 ibsd
离子蚀刻 ibe
1978 年 dr. kaufman 博士在美国创立 kaufman & robinson, inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 pc, 离子蚀刻 ibe, 辅助镀膜 ibad, 离子溅射镀膜 ibsd 领域,上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
t:+86-21-5046-1322                  t: +886-3-567-9508 ext 161
f:+86-21-5046-1490                       f: +886-3-567-0049
m: +86                    m: +886-939-653-958
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