镭雕加工 顺成激光 桥头镭雕加工

镭雕加工
镭雕是指激光雕刻，是通过激光束的光能导致表层物质的化学物理变化而刻出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，显出所需刻蚀的图形、文字；按照雕刻方式不同可以分为点阵雕刻和矢量切割。点阵雕刻―酷似高清晰度的点阵打印；激光头左右摆动，每次雕刻出一条由一系列点组成的一条线，然后激光头同时上下移动雕刻出多条线，石排镭雕加工，后构成整版的图象或文字；其扫描的图形、文字及矢量化图文都可以使用点阵雕刻。矢量切割与点阵雕刻不同，矢量切割是在图文的外轮廓线上进行。通常采用这种模式在木材、纸张、亚克力等材料上进行穿透切割，也可在多种材料表面进行打标操作！
镭雕加工
uv处理剂，桥头镭雕加工，旨在处理uv的附着力问题，增进uv附着强度，常见用途有：

uv不良品返修：即uv重涂水。喷涂uv后产生的不良品，如尘点等不良，可用砂纸将尘点稍微打磨，然后喷涂uv返修水，烘干后再喷回uv面，镭雕加工，这样就可以将不良品重新返成良品

镭雕后喷uv：一般镭雕有平面和3d两种比较常见，主要应用在手机护套，真机壳，手机中框等。为什么uv处理剂可以在这里使用呢，首先喷涂的工艺是：真空镀uv底---真空镀膜---uv中漆---镭雕---uv面漆，一般镭雕工艺就是雕穿镀层露出了uv底漆，这样就形成了想要的图像，然后再上机喷uv面，如果不喷uv处理剂直喷uv面就会导致不良高，还会出现油窝问题，并且在雕穿部分是uv面和uv底直接接触，附着力也相对不稳定，所以各厂家在产品镭雕后重新上线时，先喷个uv处理剂再喷uv面漆是的，不但良率高，附着也更好。

真空镀层增进附着：真空镀铝、铬、铟、或铟锡合金。现在很多产品都需要不同的色彩，通常uv真空镀的做法就是uv中漆加色或者uv面漆加色，加色越深，uv在镀层上的附着力就越不好，比如枪色，深红色等，容易出现附着不稳定现象，石湾镭雕加工，具体导致附着不好的原因应该是颜色影响了uv的正常反应，或反应不到位。所以这里也需要喷uv处理剂，直接喷在镀层上面，湿喷湿，薄薄的一层，然后再喷uv中漆喷面漆，这样也可以稳定其附着力。

一台镭雕机的性能，主要是由其雕刻速度、雕刻强度和光斑大小来决定。雕刻速度是指激光头移动的速度，通常用ips（英吋/秒）来表示；高速度带来高的生产效率；速度也可用于控制切割或雕刻的深度，对于特定的激光强度，速度越慢，切割或雕刻的深度就越大。雕刻速度可以通过镭雕机的控制面板来调节，也可以利用计算机的打印驱动程序来调节。在1%到的范围内，调整幅度是1%。雕刻强度越大，切割或雕刻的深度也越深。光斑大小可以利用不同焦距的透镜进行调节；小光斑的透镜适用于高分辨率的雕刻；大光斑的透镜适用于较低分辨率的雕刻，但对于矢量雕刻它是好的选择；通常的标准配置是2.0英吋的透镜，其光斑大小处于中间，适用于各种场合。
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