在许多先进的半导体元件制造中，化学机械抛光（CMP）是非常很需要的制造技术。化学机械抛光在特定的制造步骤间，让硅晶圆表面达到全面的平面化，使更多层电路可以垂直地在元件上制造。PVA海绵具有的亲水性能和较好的柔韧性，不易划伤硅片，且去除颗粒效果好。PVA海绵在半导体制造业的CMP后清洗中有着重要的应用。东安开发有限公司的专利生产线能生产出具有Zui优良的机械强度和亲水性能的PVA海绵。ProCleanTM PVA清洁材料的工作原理：在清洁过程中改变PVA（聚乙烯醇）的分子结构，使基片，PVA，水及清洁介质在一定的时间内达到的反应状态，从而保证达到严格的清洁效果。PVA是一种性能的化学清洁剂的反应介质，正是它给待清洁的基片提供了Zui强有力的清洁作用，而进行产品表面的擦洗只是辅助PVA对产品进行清洁。基于ProCleanTM  PVA的工作原理，我们可以为客户设计出Zui适合其生产设备及生产工艺的PVA清洁产品，ProCleanTM  PVA产品规格齐全。可以用在Amat Amirr Mesa，Lam On-trak,Ebara和SpeedFam-IPEC等CMP机台。可帮助客户制造技术领先的半导体元件，同时也能满足客户提高产量，降低生产成本，提高产品竟争力的需求。在许多先进的半导体元件制造中，化学机械抛光（CMP）是非常很需要的制造技术。化学机械抛光在特定的制造步骤间，让硅晶圆表面达到全面的平面化，使更多层电路可以垂直地在元件上制造。PVA海绵具有的亲水性能和较好的柔韧性，不易划伤硅片，且去除颗粒效果好。PVA海绵在半导体制造业的CMP后清洗中有着重要的应用。东安开发有限公司的专利生产线能生产出具有Zui优良的机械强度和亲水性能的PVA海绵。ProCleanTM PVA清洁材料的工作原理：在清洁过程中改变PVA（聚乙烯醇）的分子结构，使基片，PVA，水及清洁介质在一定的时间内达到的反应状态，从而保证达到严格的清洁效果。PVA是一种性能的化学清洁剂的反应介质，正是它给待清洁的基片提供了Zui强有力的清洁作用，而进行产品表面的擦洗只是辅助PVA对产品进行清洁。基于ProCleanTM  PVA的工作原理，我们可以为客户设计出Zui适合其生产设备及生产工艺的PVA清洁产品，ProCleanTM  PVA产品规格齐全。可以用在Amat Amirr Mesa，Lam On-trak,Ebara和SpeedFam-IPEC等CMP机台。可帮助客户制造技术领先的半导体元件，同时也能满足客户提高产量，降低生产成本，提高产品竟争力的需求。