2026年美国丹佛高功率激光与抗损伤材料展开幕

厦门
2026年美国丹佛高功率激光与抗损伤材料展开幕

面向高功率激光器研发企业、光学薄膜制造商、精密光学元件供应商及工业激光设备采购商,2026年美国丹佛高功率激光技术与抗损伤材料展览会将于10月正式开展。该展会由国际光学与光子学学会(SPIE)主办,集中展示高能激光环境下的组件耐久性、建模测试、制造工艺及相关前沿材料,为产业链上下游提供技术交流与供应链对接场景。

    • 举办时间:2026年10月25日至28日
    • 举办地点:美国丹佛市 Embassy Suites by Hilton Denver Downtown Convention Center
    • 主办方:国际光学与光子学学会(SPIE)
    • 行业范围:高功率激光技术、光学与光子学、抗激光损伤材料与薄膜、精密光学器件制造
    • 观众类型:激光器工程师、材料科学家、光学技术研发人员、产品开发者及工业采购代表

高功率激光应用场景下的材料与技术演进

随着工业激光切割、焊接、表面处理及科研医疗领域的功率需求持续攀升,光学元件在极端能量密度下的抗损伤阈值已成为制约设备稳定运行的核心指标。本次展会围绕高功率与高能量激光环境中的组件设计展开,重点呈现多层反射镜、特种光学玻璃及新型涂层材料的实测数据。参展企业主要涵盖激光技术、材料科学与光学工程交叉领域,现场将集中发布针对飞秒脉冲至连续波激光系统的防护方案。对于从事CO2激光器、超快激光器及短脉冲激光器配套研发的工厂而言,此类展会是获取上游光学基材性能边界、验证自身产品耐受极限的重要参考节点。通过实地观摩不同基底材料的损伤演化过程,设备制造商能够更精准地匹配光源参数与光学窗口规格,降低产线停机风险。

展会期间同步设立技术会议与双盲激光损伤竞赛环节,参赛团队需提交多层镜片样品,在飞秒脉冲范围内接受标准化激光辐照测试并公布抗损伤结果。该机制直接映射工业现场对核心光学部件的严苛验收标准,有助于国内设备制造商建立内部检测规范,或筛选具备同等测试能力的海外供应商。同时,技术会议汇聚科研人员与产品开发工程师,就薄膜沉积工艺、表面缺陷控制、热管理设计及寿命预测模型进行深度研讨。外贸公司与渠道商可通过现场技术参数比对,梳理高附加值光学耗材的进口替代路径;材料供应商亦可借此了解欧美市场对激光防护涂层的认证要求与迭代方向。官网已开放基础资料查询,相关产业链企业可提前规划行程,结合北美同期光学产业活动进行集中考察。

资料来源:TradeFairDates;展会信息以主办方和官网更新为准。

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