英国剑桥CGD推出650V氮化镓器件用于电动汽车电驱系统

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英国剑桥CGD推出650V氮化镓器件用于电动汽车电驱系统

英国剑桥氮化镓器件公司(Cambridge GaN Devices,简称CGD)正式推出面向电动汽车电驱系统的650V ICeGaN集成式氮化镓功率器件。该器件已完成工程样品交付,正与多家国际整车厂及一级供应商开展联合测试,目标嵌入800V平台电驱动逆变器,以提升系统效率、缩小体积并简化热设计。

这款ICeGaN器件并非传统分立GaN晶体管的简单封装升级,而是将GaN HEMT芯片、栅极驱动接口、温度传感单元及抗干扰辅助晶体管全部集成于单一封装内。其核心参数为导通电阻9 mΩ(在25°C结温下测得),远低于当前主流650V SiC MOSFET(典型值15–25 mΩ)及硅基IGBT模块;开关频率可达500 kHz以上,显著高于SiC器件常用工作频段(通常≤100 kHz)。高开关频率直接允许减小逆变器中滤波电感与直流链路电容的体积——实测显示,在同等75 kW连续输出条件下,配套无源元件总重量可降低约35%,这对电驱系统轻量化与空间布局至关重要。

氮化镓在汽车电驱应用长期受限于并联均流难题:多个GaN器件并联时,微小阈值电压差异易导致电流分配严重不均,引发局部过热甚至失效。CGD通过在芯片级集成专用动态均衡接口,使并联器件在无需外部匹配电阻、不依赖严苛筛选的前提下实现±3%以内的电流偏差控制。该设计跳过了传统GaN方案中必须增加的电流采样电路与闭环调节逻辑,大幅降低逆变器控制板面积与BOM成本。对系统工程师而言,这意味着可直接复用现有SiC或IGBT的PCB布局框架,仅需调整驱动信号时序参数,即可完成平台迁移。

针对车载电磁环境严苛性,ICeGaN内置一个独立的硅基辅助晶体管,专用于吸收栅极驱动回路中的dv/dt感应噪声,实测可将共模噪声峰值抑制22 dB,满足ISO 11452-4脉冲群抗扰度要求。同时,其集成式温度传感器位于GaN芯片有源区正上方,响应时间<10 ms,精度±1.5°C,数据通过模拟电压信号直连MCU,省去外置NTC热敏电阻及其信号调理电路。这一设计不仅提升热保护实时性,更使电控系统能动态调整PWM调制策略——例如在持续爬坡工况下主动降频运行,避免结温超限,延长器件寿命。

法国与德国是欧洲车规半导体验证Zui严苛的市场,当地主机厂普遍要求功率器件通过AEC-Q101 Grade 0认证(结温范围−55°C至175°C),且需完成至少2000小时HTRB(高温反偏)与1000小时HTGB(高温栅偏)加速老化测试。CGD采用GlobalFoundries位于德国德累斯顿的22FDX工艺线代工,该产线已通过IATF 16949认证,并具备车规级晶圆级可靠性测试能力。目前样品已通过初步ESD(HBM>2 kV)与浪涌(IEC 61000-4-5 Level 4)测试,但完整AEC-Q101认证预计2025年Q2完成。对中国电驱系统厂商而言,这意味着短期内可将其用于非安全关键的辅助电源或OBC模块验证,但主逆变器量产导入仍需等待认证落地。

该器件定位明确:填补650V电压等级下GaN在主驱领域的空白。当前市场上650V GaN器件多为分立结构(如EPC、Navitas产品),需额外搭配驱动IC与保护电路;而1200V GaN尚处实验室阶段,商业化遥遥无期。CGD的ICeGaN实质上是以“集成化”换取“车规可用性”,其价值不在颠覆SiC,而在提供一条技术风险更低、开发周期更短的替代路径——尤其适用于800V平台中对功率密度敏感但峰值功率不超过120 kW的中高端车型电驱系统。国内头部电控企业若计划2025–2026年量产新平台,此时启动采样评估恰逢其时,但需重点关注其在高频工况下的长期可靠性数据积累进度。

产业化瓶颈不在技术验证,而在供应链纵深。GlobalFoundries德累斯顿厂虽已通过IATF认证,但其GaN产能仍集中于消费电子与数据中心电源领域,车规产线尚未满负荷运转。CGD当前未披露具体产能规划,也未公布是否建立第二来源。对中国采购工程师而言,这意味着首批量产后交期可能受制于德累斯顿厂排产优先级,建议同步评估其与国内代工厂(如三安光电、英诺赛科)在工艺兼容性上的潜在合作可能性,而非仅依赖单一海外供应路径。

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