苏州华飞微电子材料有限公司于2004年6月开始建立深紫外光刻胶及其成膜树脂产品的中试车间，即对248纳米、193纳米深紫外光刻胶成膜树脂的合成及配胶方法分别进行了试验。经过两年来自主创新，研制试验，已完成了248纳米深紫外光刻胶成膜树脂及配胶产品的中试实验，并经中电科技集团第十叁研究所、第五十五研究所等有关院所进行检测试用，认定均符合线宽0.18微米-0.25微米深紫外光刻胶的各项技术指标要求，产品质量达到了国际先进水平，属国内首创。并已申请获得七项发明专利。华飞248纳米深紫外光刻胶及其成膜树脂产品于2006年10月通过江苏省厅级技术鉴定。现已初步形成年产2000公斤左右的小规模生产能力，正在考虑进一步扩大生产能力。应对目前使用高端及特殊用途的紫外光刻胶也都依靠进口的状况，华飞公司于2005年12月开始进行高端紫外光刻胶试制，现已完成了数个系列的紫外光刻胶用成膜树脂的研制并配制成适用于芯片上应用及先进封装与MEMS制造中应用的紫外光刻胶。试样已送有关研究院、所及生产芯片单位的紫外光刻胶进行检测和试用并获得认可。现准备年内建成5吨紫外光刻胶用成膜树脂及20吨紫外光刻胶生产线，然后逐步扩大生产满足需求，替代进口，加快发展建立具有我国自主知识产权，独立自主的光刻胶工业。