硅片清洗剂配方有效成分检测,技术转让
- 供应商
- 杭州柘大检测技术有限公司
- 认证
- 报价
- ¥1000.00元每个
- 品牌
- 柘大检测
- 型号
- 成分
- 联系电话
- 0571-87759051
- 手机号
- 15397161905
- 销售工程师
- 余工
- 所在地
- 杭州市西湖区西溪路525号B楼209室
- 更新时间
- 2020-11-04 09:30
硅片清洗剂配方有效成分检测,技术转让
硅片清洗剂广泛应用于光伏,电子等行业硅片清洗;由于硅片在运输过程中会有所污染,表面洁净度不是很高,对即将进行的腐蚀与刻蚀产生很大的影响,所以首先要对硅片表面进行一系列的清洗操作。清洗的一般思路首先是去除表面的有机沾污,然后溶解氧化膜,因为氧化层是“沾污陷进”,会引起外延缺陷;再去除颗粒、金属等,同时使硅片的表面钝化。
目前多采用传统的rca清洗方法,不仅可以去除硅片表面的金属、有机物等,还可以去除小颗粒等污染物。
spm具有很高的金属氧化能力,可将金属氧化后溶于清洗液中,并能将有机物氧化生成二氧化碳和水。用spm清洗硅片可以去除表面的种有机沾污和部分金属,当沾污特别严重时,难以去除干净。
dhf(hf),可以去除硅片表面的自然氧化膜,同时抑制氧化膜的形成。易去除硅表面的al、fe、zn、ni等金属,也可以去除自然氧化膜上的氢氧化物。在自然那氧化膜被腐蚀掉时,硅片几乎不被腐蚀。
热态洗硅成膜剂,包括a剂和b剂,a剂包含强碱性催化剂5%~35%、无机溶剂65%~95%,显色剂微量,原料总和为100%;b剂包含分析纯磷酸三钠03%~3%、分析纯联氨0.05%~2%,与两种无机溶剂,其原料总和为100%;使用时由a剂和b剂按照体积比1:10的比例混合使用,混合后溶液比重为1.008g/ml~1.031g/ml。
日本索尼公司研制的hf/o3单片旋转式清洗法,可以有效去除硅表面的有机沾污、无机沾污、金属沾污等。此设备上有三路供液系统,可同时将hf酸、溶解油臭氧的超纯水、超纯水供应到硅片中心。在此过程中,首先将hf酸、溶解油臭氧的超纯水交替供应到硅片中心,每种试剂供应约10s交替一次,接着供应纯水进行冲洗。最后用旋转干燥法对硅片进行干燥,为避免旋转干燥法给硅片表面带来水迹,可以改用氮气吹。
有效成分是化学,生物学,药物学广泛应用的术语,指一种混合物中,对生物体代谢或者化学反应起作用的成分。
24小时服务电话:0571-87759051 余工
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