上海伯东德国普发Pfeiffer涡轮分子泵组脉冲激光沉积系统

伯东公司 pfeiffer  普发涡轮分子泵组脉冲激光沉积系统应用

脉冲激光沉积（pulsed laser deposition, pld），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. pld 系统由多个真空腔体组成，整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质，对环境的清洁度要求较高，必须配备无油干泵和分子泵抽真空。由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 pfeiffer hicube 系列分子泵组. 伯东公司销售维修的 pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小，清洁无油（前级泵配备干泵）、抽速快、极限真空度高达10-11mbar等优点一经上市好评如潮。
 

客户案例一：南京某大学物理学院

1.系统功能：主要用于mn氧化物膜,陶瓷氧化膜或金属膜的制备

2.真空度要求: 真空度< 1x10-8 mbar
3.样品尺寸：大约1cm2
4.基板加热温度：700至1000度
该pld系统 pfeiffer 分子泵配置:
1.pfeiffer 普发经济型分子泵组 hicube 80 eco
2.pfeiffer 普发涡轮分子泵 hipace 700

客户案例二：上海某研究所  脉冲激光沉积系统基本规格:

1.系统功能：主要用于制备有机自旋阀器件，还可用于制备有机发光二极管、太阳能电池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.样品尺寸：直径2’
4.基板加热温度：1000度
5.镀膜方式：effusion cell/plasma cell
6.膜生长控制模式：镀率/厚度/时间 控制模式
该pld系统 pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵组 pfeiffer hicube 80*7
2.涡轮分子泵 pfeiffer hipace 300*2

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