上海凸版光掩模有限公司
  • 简介
  • 基本资料
  • 变更记录
  • 知识产权
  • 招聘
    • 公司成立于1994年，位于漕河泾新兴技术开发区，为专业生产及销售光掩模及提供相关服务的外商独资企业。发展至今，我公司已逐步确立在中国半导体制造业中光掩模产品主要供应厂商的领先地位，向国内以及全球各地芯片制造商和设计公司提供亚微米设计规则的光掩模产品。我们以产品的质量为根本，竭诚为客户服务为宗旨。2003年获得英国劳氏船级社颁发的2000版ISO－9001证书。目前公司更名为上海凸版光掩模有限公司.详情可查阅www.photomask.com.

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    法人名称
    上海凸版光掩模有限公司
    经营范围
    生产光掩模，销售自产产品，上述产品及同类商品、电子产品、数码产品、膜产品及相关零部件、包装材料的批发、佣金代理（拍卖除外）和进出口，并提供相关配套服务，从事光掩模的研究、开发，转让自研成果，提供相关的技术咨询和技术支持，提供企业管理咨询、商务信息咨询、信息技术咨询。（不涉及国营贸易管理商品，涉及配额...
    营业执照
    未公开
    核准日期
    1994-09-06 00:00:00
    经营状态
    在业
    法人代表
    TERRY WAYNE RUSSELL
    成立时间
    1994年09月06日
    职员人数
    100人
    注册资本
    843.400000万美元 (万元)
    公司官网
    http://www.photomask
    所属分类
    其他电子产品零售黄页
    凸版光掩模的股东
    股东名字出资比例出资额
    TOPPAN PHOTOMASKS INC11843.400000万美元
    凸版光掩模的管理人员
    名字职务
    TERRY WAYNE RUSSELL董事长
    郭天全董事
    杨国洪董事
    TERUO NINOMIYA董事
    SHIGERU KOSAMI董事
    William Henry Carroll监事
    凸版光掩模的工商变更记录
    监事备案刘邦烜刘邦烜2022-07-29
    高级管理人员备案无无2022-07-29
    董事备案TERUO NINOMIYA Tadashi Ishimatsu 卢坤材 [新增] 郭天全 Michael George Hadsell 杨国洪Michael George Hadsell 杨国洪 Tokio Takei [退出] Tadashi Ishimatsu TERUO NINOMIYA 郭天全2022-07-29
    章程修正案备案2021-12-20 章程修正案2020-04-01章程备案2021-12-28
    董事备案Michael George Hadsell 郭天全 Tokio Takei 杨国洪 TERUO NINOMIYA Tadashi IshimatsuTERUO NINOMIYA Tokio Takei Michael George Hadsell 郭天全 杨国洪 Tadashi Ishimatsu2021-08-06
    经理备案无无2021-08-06
    监事备案刘邦烜 [新增]William Henry Carroll [退出]2021-08-06
    法定代表人变更Tomoyuki ObayashiTERRY WAYNE RUSSELL2020-04-29
    经理备案无无2020-04-29
    监事备案William Henry CarrollWilliam Henry Carroll2020-04-29
    董事备案Michael George Hadsell [新增] Tokio Takei [新增] 郭天全 Tadashi Ishimatsu [新增] TERUO NINOMIYA 杨国洪SHIGERU KOSAMI [退出] TERUO NINOMIYA 郭天全 杨国洪2020-04-29
    章程修正案备案2020-04-01 章程修正案2016-11-01章程备案2020-04-29
    注册资本变更11843.4000万美元（ + 1304.24472% ）843.4000万美元2016-11-16
    章程修正案备案2016-11-01 章程修正案2014-09-26章程备案2016-11-16
    经理备案无无2016-11-16
    董事备案郭天全 [新增] 杨国洪 SHIGERU KOSAMI [新增] TERUO NINOMIYA [新增]杨国洪 Yasuhiro okada [退出]2016-11-16
    经营范围变更生产光掩模，销售自产产品，上述产品及同类商品、电子产品、数码产品、膜产品及相关零部件、包装材料的批发、佣金代理（拍卖除外）和进出口，并提供相关配套服务，从事光掩模的研究、开发，转让自研成果，提供相关的技术咨询和技术支持，提供企业管理咨询、商务信息咨询、信息技术咨询。（不涉及国营贸易管理商品，涉及配额、许可证管理商品的，按国家有关规定办理申请）【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】生产光掩模，销售自产产品，上述产品同类商品的批发、佣金代理（拍卖除外）和进出口，并提供相关配套服务，从事光掩模的研究、开发，转让自研成果，提供相关的技术咨询和技术支持，提供企业管理咨询、商务信息咨询、信息技术咨询。（不涉及国营贸易管理商品，涉及配额、许可证管理商品的，按国家有关规定办理申请）【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】2016-11-16
    监事备案William Henry CarrollWilliam Henry Carroll2016-11-16
    董事备案郭天全;杨国洪;SHIGERU KOSAMI;TERUO NINOMIYA杨国洪;Yasuhiro okada2016-11-16
    注册资本变更11843.4000万美元843.4000万美元2016-11-16
    董事备案Yasuhiro okada;GANG LIU;杨国洪GANG LIU;Yasuhiro okada2015-03-30
    法定代表人变更TERRY WAYNE RUSSELLMICHAEL GEORGE HADSELL2015-03-30
    监事备案William Henry CarrollWilliam Henry Carroll2015-03-30
    经理备案无无2015-03-30
    董事备案Yasuhiro okada GANG LIU 杨国洪 [新增]GANG LIU Yasuhiro okada2015-03-30
    董事备案Yasuhiro okada GANG LIU邹世昌 [退出] 王曦 [退出] GANG LIU Yasuhiro okada2014-11-12
    投资人变更TOPPAN PHOTOMASKS INC上海新微电子有限公司; [退出] TOPPAN PHOTOMASKS INC2014-11-12
    章程备案2014-09-26章程备案2011-11-30章程备案2014-11-12
    投资人变更TOPPAN PHOTOMASKS INC上海新微电子有限公司;TOPPAN PHOTOMASKS INC2014-11-12
    董事备案Yasuhiro okada;GANG LIU邹世昌;王曦;GANG LIU;Yasuhiro okada2014-11-12
    凸版光掩模的专利证书
    CN204375706U实用新型2015-06-03一种用于半导体反应腔室的清洗装置基本电气元件陶懿宗;胡平
    CN105988308A发明公布2016-10-05一种掩模版上残胶的去除方法摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术马志平;成立炯;平志纲
    CN203422555U实用新型2014-02-05光掩模板导向片去除机摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术凌震军
    CN104614946A发明公布2015-05-13基于滴定工装的UT装脚工艺摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术俞子华
    CN203418456U实用新型2014-02-05光掩模贴膜工序用的板夹手动工具；轻便机动工具；手动器械的手柄；车间设备；机械手成立炯;俞子华
    CN102117027A发明公布2011-07-06光掩模安装保护膜的定位方法摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术王国荃
    CN104375378A发明公布2015-02-25光掩模制造方法摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术张沧岂
    CN204270008U实用新型2015-04-15一种光掩膜烘烤板架摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术李勇;郑宏
    CN203422554U实用新型2014-02-05一种光掩模板贴膜装置摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术凌震军
    CN203481189U实用新型2014-03-12去胶机台成立炯;陈健清;胡平
    CN204331286U实用新型2015-05-13一种掩膜版清洗机台的喷水装置摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术马志平
    CN105575839A发明公布2016-05-11一种微颗粒的测量方法基本电气元件王国荃;俞子华
    CN102117027B发明授权2012-12-19光掩模安装保护膜的定位方法摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术王国荃
    CN104423144A发明公布2015-03-18一种光掩模及光掩模套刻精度的监测方法摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术李晓梅

    • CAD光掩模数据处理工程师

      月薪：1-1千/月 工作性质：全职
      职位介绍：岗位职责:向客户提供技术支持，包括定单的技术审核、定单处理、产品识别/解决方案等方面问题。与公司其他技术部门一起配合，为客户提供技术资料/培...

    • 半导体光罩缺陷修补工艺工程师

      月薪：1-1千/月 工作性质：全职
      职位介绍：岗位职责： 负责光掩模缺陷修补机台以及缺陷模拟机台以及缺陷检查机台工艺流程的建立、日常管理和维护。 负责生产线上异常缺陷和高难度缺陷修补...

    • Litho Process Engineer半导体光刻工艺工程师

      月薪：1.2-1.8万/月 工作性质：全职
      职位介绍：Job Duties岗位职责: 负责激光光刻设备的日常管理、及相关供应商的管理； 确保光刻相关工艺稳定； 能够熟练操作工艺设备并处理工...

    • 半导体行业客户经理

      月薪：1-2千/月 工作性质：全职
      职位介绍：Responsibilities岗位职责： 1. Responsible of new account development and/or...

    • 半导体操作工

      职位介绍：工作职责： - 本职位为生产一线的操作人员 - 经上岗培训后，按照生产工艺的制造流程和操作手册，通过对高精密机器的操作，生产出合格的光...

    • 订单处理专员

      职位介绍：工作职责： 将客户的订单文件转录入我们的iMask系统 和其他Sister site沟通各种订单转移的事项 出口订单的报关文件准...

    • Production Planner生产计划

      职位介绍：作职责： 深入了解公司产品的生产流程及工艺，对生产线上订单动态控制及调节，满足客户对交期的期望以及公司产能和实际出货的匹配。 和其他各部...
    简称
    凸版光掩模
    联系电话
    +86-13801940377
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    TERRY WAYNE RUSSELL
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    200233
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    上海市徐汇区宜山路800号